MOS管场效应管结构工作原理详解

   时间:2020/4/1      阅读:5586   关键词:场效应管

什么是场效应管MOS

 

场效应管分两种:结型场效应管(junction FETJFET)  + 金属 - 氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET),场效应管是场效应晶体管人简称,因数载流子参与导电也被称之为单极型晶体管;

 

场效应管MOS的优点:

1.噪声小

2.大动态范围

3.输入电阻高

4.低功耗

5.集成容易

6.不会有二次击穿现象

7.具有很宽的安全工作区域

8.因利用多数载流子导电,温度稳定性较好

9.电压控制电子元器件并用是VGS栅源电压控制ID漏极电流

 

 

场效应管MOS结构:

 

场效应管MOS管种类:增强型 + 耗尽型

场效应管MOS管分三个极:栅极G + 源极S + 漏极D

 

场效应管MOSN沟道增强型结构:

 

在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底上制作两个高掺杂浓度的N+并用金属铝引出漏极d和源极s,后在半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层在漏极与源极间绝缘层上装一个铝电极作为栅极g衬底引出一个电极B

特点:N沟道增强型栅极与其它电极间是绝缘的;

 

 

场效应管MOS工作原理:

vGSiD及沟道控制作用

vGS=0

增强型场效应管MOS管漏极d和源极s之间有两个背靠背的PN结。

栅极与源极间电压vGS=0  + 漏极与源极电压vDSPN结处于反偏状态,漏极与源极间无导电沟道,漏极电流iD0

 

vGS>0

栅极与衬底之间SiO2绝缘层间产生电场。

此电场方向垂直于半导体表面的由栅极指向衬底的电场。

此电场能排斥空穴而吸引电子。

 

排斥空穴:使栅极附近的P型衬底中的空穴被排斥,剩下不能移动的受主离子(负离子),形成耗尽层。

吸引电子:将 P型衬底中的电子(少子)被吸引到衬底表面。

 

 

 

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