什么是CMOS场效应管闩锁效应及Latch up产生-竟业电子

   时间:2022/3/11      阅读:1964   关键词:MOS场效应管

闩锁效应CMOS场效应管电路中寄生可控硅结构被触发导通,在电源和地间存在一个低阻抗大电流通路,导致电路无法正常工作,甚至烧毁电路。

Latch upCMOS场效应管晶片中,在电源VDD和地线GND(VSS),因寄生PNPNPN双极性BJT相互影响而产生的一低阻抗通路,它的存在会使VDDGND间产生大电流;

Latch up产生,根据封装密度集成度有关,这两者越高,可能产生Latch up越大。
Latch up产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的破坏
IC Layout防范Latch up很重要。

什么是CMOS场效应管闩锁效应及Latch up产生

Latch up原理
如上电路所示
Q1=垂直式PNP BJT
基极(base)=nwell
基极到集电极的增益可达数百倍;

 

Q2=侧面式NPN BJT
基极=P substrate

到集电极的增益可达数十倍;

Rwell=nwell的寄生电阻;
Rsub=substrate电阻。

四元件构成可控硅SCR电路,当无外界干扰引起触发时,两个BJT可控硅结构处于截止状态,集电极电流由C-B的反向漏电流构成,非常小的电流增益,此时不会产生Latch up

 

集电极电流受外部干扰其中一个BJT增加 = 一定值

会反馈至另一个BJT

触发两个BJT同时导通,VDDGND间形成低阻抗通路,产生Latch up

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