MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较-竟业电子

   时间:2021/7/15      阅读:2080   关键词:

MOS场效应管导通电阻受温度影响

功率MOS场效应管开关温度升高,导通电阻上升

 

操作温度范围内

温度上升,MOS场效应管RdsON2倍正斜率上升;

如下图所示

0.64%/

MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

驱动条件一定

MOS场效应管:通过降低开启门限电压来补偿;

晶体管温度上升,增益迅速上升,Vcesat)变化小

如下图所示

MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

Rcesat)上升的速率=RdsON/20.38%/

硅面积相同,晶体管温升更小,电流密度高。

 

硅利用率:

MOS场效应管导通前需横向开拓电流通路,半导体硅晶片更多。

BIPOLAR TRANSISTOR最优化电流垂直流动

如下图所示

ZETEX最新几何技术

MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

base contact最小化,最大利用发射区面积。

 

相同硅晶片

晶体管比MOS场效应管传输电流更有效,可封装减小。

 

 

 

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