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  • MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较-竟业电子

       时间:2021/7/15       阅读:1467    关键词:

     

    MOS场效应管导通电阻受温度影响

    功率MOS场效应管开关温度升高,导通电阻上升

     

    操作温度范围内

    温度上升,MOS场效应管RdsON2倍正斜率上升;

    如下图所示

    0.64%/

    MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

    驱动条件一定

    MOS场效应管:通过降低开启门限电压来补偿;

    晶体管温度上升,增益迅速上升,Vcesat)变化小

    如下图所示

    MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

    Rcesat)上升的速率=RdsON/20.38%/

    硅面积相同,晶体管温升更小,电流密度高。

     

    硅利用率:

    MOS场效应管导通前需横向开拓电流通路,半导体硅晶片更多。

    BIPOLAR TRANSISTOR最优化电流垂直流动

    如下图所示

    ZETEX最新几何技术

    MOS场效应管与晶体管温度影响及硅利用率比较

    base contact最小化,最大利用发射区面积。

     

    相同硅晶片

    晶体管比MOS场效应管传输电流更有效,可封装减小。

     

     

     

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