MOS场效应管雪崩方式及何时要考虑雪崩-mos场效应管应用-竟业电子

   时间:2021/1/4      阅读:2227   关键词:MOS场效应管

如下所示

在UIS工作状态下,MOS场效应管雪崩损坏及无损坏时

 

电子元器件在UIS工作时雪崩损坏模式有2种

即寄生三极管导通损坏+热损坏

 

寄生三极管导通损

即在MOS场效应管内部一个寄生三极管

如下图所示

 

一般情况下,三级管击穿电压<MOS场效应管电压,漏源反向电流流过P区,Rp和Rc产生压降值=三极管BJTVBEon,因不一致的局部单元,弱单元因三级管放大作用及基级电流IB增加让局部三极管BJT导通,因此发生失控,栅极电压不足以关断MOS场效应管;

 

 

热损坏

即MOS场效应管在功率脉冲作用,因增加功耗,结温升高致硅片特性允许临界值,从而产生失效;

 

如下图所示

Rp=源极内部收缩区电阻

Rc=接触电阻

Rp,Rc与温度相关,随其增加而增加,射极和基极开启电压VBE随温度增加而降低,

UIS能力随温度增加而降低;

 

雪崩能量何时考虑

1.电源输出短路时,初级产生大电流+初级电感时;

2.电机是感性负载,启动和堵转过程会产生大冲击电流;

3.MOS场效应管漏源产生大电压尖峰应用时;

4.反激应用,MOS场效应管关断时会产生大电压尖峰;

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